DICは9月15日、子会社のトピックがフォトマスクの需要の拡大に対応するため、工場の新設と顧客の要求レベルに応える最先端描画装置の導入を決めた。
＜新工場の完成予想図＞
装置を含めた投資金額約9億円となる新工場は、本社工場近隣で建設を進めており、10月の稼動を予定している。
フォトマスクは、回路基板に露光工程で回路パターンを転写する際などに使用するガラスなど透明な素材でできたパターン原版。
家電やIT機器の高機能化にともない、基板も小型化や高集積化が進んでいることから、描線の微細化や精度の向上が求められている。
フォトマスク市場は、スマートフォンやIoT、テレマティクスなどでの需要拡大や高機能化にともない、グローバルベースで2020年までに年率2～3％の成長が見込まれている。
